Модифицированный метод химического осаждения из газовой фазы
Модифицированный метод химического осаждения из газовой фазы (MCVD) был разработан на основе технологии производства полупроводников. Хлоридные реагенты в газовой фазе и кислород впрыскиваются во вращающуюся трубку с диоксидом кремния. Перемещаемая горелка нагревает трубку, вызывая гомогенную реакцию, в результате которой образуются мельчайшие сажеподобные частицы окиси. Под воздействием механизма термофореза эти частицы перемещаются в менее нагретую область впереди горелки и откладываются на стенках. При дальнейшем движении горелка сплавляет частицы, и они образуют на внутренних стенках трубки стеклянное покрытие высокой чистоты. Изменение толщины и показателя преломления стеклянного слоя достигается изменением концентрации таких реагентов, как тетрахлорид кремния и тетрахлорид германия. Схема этого метода приведена на рис. 1.
После осаждения необходимого количества слоев, удовлетворяющих требованиям изготовления волокна, к трубке подают дополнительное тепло, что приводит к ее «схлопыванию» и образованию твердого стержня или заготовки. Эту заготовку затем помещают в башню для вытяжки, как показано на рис. 2. Конец заготовки опускают в высокотемпературную печь, где он плавится, что позволяет сформировать волокно. Это волокно пропускается через устройство, измеряющее диаметр вытянутого волокна.
Информация о диаметре волокна затем используется регулятором скорости вытяжки для коррекции темпа, с которым волокно вытягивается. Затем для защиты волокна на него наносится специальное покрытие, для чего свежевытянутое волокно проходит через ванну для нанесения покрытия. После того как материал покрытия затвердевает (используемый для покрытия акрилат затвердевает под воздействием ультрафиолетового излучения; для этого волокно проходит через область создаваемого лампами мощного УФ-излучения), волокно наматывается на приемную бобину. Приемный механизм может включать в себя также контрольное устройство, в котором к волокну прикладывается определенное усилие для проверки его на прочность.
Метки: MCVD, УФ излучение.
Добавить комментарий